中微公司刻蚀技术新飞跃
该精度已在氧化硅、氮化硅和多晶硅等多种薄膜材料的刻蚀工艺中得到了验证。这一数值极为微小，仅相当于硅原子直径2.5埃的十分之一，或是人类头发丝平均直径的五百万分之一，展示了中微公司在精密制造领域的卓越实力。八卦爆料在进一步的性能测试中，中微公司对200片硅片进行了重复性测试。结果显示，在氧化硅、氮化硅和多晶硅的测试晶圆上，左右两个反应台各处理的100片晶圆，其平均刻蚀速度的差异分别仅为每分钟0.9埃、1.5埃和1.0埃。值得注意的是，两个反应台之间的平均刻蚀速度差异（≤0.09%）远小于单个反应台处理多片晶圆时的刻蚀速度差异（≤0.9%），这证明了Primo Twin-Star®在刻蚀均匀性和稳定性方面的卓越表现。黑料网-独家爆料
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